Implanty T3
Implant zaprojektowano w celu zapewnienia efektu estetycznego poprzez zachowanie tkanek.

  • Nowoczesna budowa hybrydowa
    wielopoziomowa modyfikacja powierzchni implantu
  • Szczelne połączenie
    Stabilne i szczelne połączenie implantu z nadbudową
  • Zintegrowana Platform Switching
    Dośrodkowe umieszczenie łączenia implantu z nadbudową

Zwiększona szorstkość powierzchni cechuje się średnią wartością na poziomie 1,4 μm

  • Primary Stability 6,7,8

Initial Bone-to-Implant Contact is a major contributor to the implant’s stability.9

  • Osseointegration 10,11

In preclinical studies*, the T3 with DCD Surface demonstrated increased integration strength throughout the healing phase as compared to less complex surface topographies.11

  • No Increased Peri-implantitis Risk 12,13

The T3 Implant utilizes the proven Osseotite® Surface technology at the coronal aspect of the implant. In a five-year study**, the dual acid-etched surface of the Osseotite Implant presented no increased risk of peri-implantitis or soft-tissue complications versus a machined surface.12

Broszura implanty T3

Warianty

Certain Internal T3 Tapered Implant

With DCD Platform Switched and Platform Switched

Certain T3 Parallel Walled Implant

With DCD Platform Switched and Platform Switched.

External Hex. T3 Implant Tapered

With DCD Platform Switched and Platform Switched

T3 Short Ex Hex Implant

With Discrete Crystal Deposition (DCD)

Produkty powiązane

Simultaneous T3 Implants in the Aesthetic Zone

Watch Simultaneous T3 Implants in the Aesthetic Zone Video